全自動晶片減薄設備
原廠品牌：
原廠介紹：
日本秀和工業株式會社成立于1951年，總部位于東京都。秀和專注于化合物半導體材料（碳化硅、砷化鎵、磷化銦、氧化鎵、藍寶石）的加工設備。可以為客戶提供上蠟、研削、研磨、拋光、脫蠟、倒角、輪廓測試等相關設備，同時還可以為客戶提供加工設備的耗材產品，如研磨盤、拋光盤、研磨液、拋光液等。
日本秀和工業株式會社在碳化硅，氮化鎵行業研削、研磨、拋光領域的經驗超過20年！同時是氧化鎵行業最早供應商！
產品圖片：
產品型號:
SGM-9100
產品介紹：
SGM-9100是一款適用于化合物半導體晶片中難研削材料、脆性材料的高精度CtoC全自動研削減薄機，加工軸采用2軸、3卡盤、旋轉臺方式。
加工方式采用間歇性，遞進式的in-feed研削法（面對面加工減少橫向壓力原因的裂紋發生率）。對加工中晶圓的厚度變化進行監測，同時使用IPG制御系統對加工的厚度進行實時監測管理。
特別一提，對應φ8英寸的SiC的高效磨削，秀和的機器配備11?的高動力輸出的砂輪主軸電機，同時兼備穩定高剛性。
秀和通過多年來大量的經驗技術的沉淀，在針對第三代“寬禁帶半導體”化合物晶圓的研磨工藝領域，擁有業界領先的自信，對不同材質，提供最適合砂輪磨石方案。
基本規格：
選配功能：
*需單獨溝通確認
SGM-9100 研削方法：
Infeed研削：晶圓吸附臺旋轉的同時，砂輪砥石軸也在反向旋轉中，在接觸的瞬間開始加工，但是加工領域只有半面晶圓IPG制御可對加工進程進行進行實時監控與管理。以俯瞰的視點來看，加工軌跡是從中心向外延擴散開的。（面對面加壓研磨減薄）
加工精度：
φ6”SiC 最終研削后
?平坦度1.5μm
?Ra=1～2nm
生產能力：
例1 ) φ6” SiC器件研削時(單面處理)
?t=350μm→150μm
UPH/約13片
運行12小時 日產/156片
運行30天 月產/4680片
例2 ) φ6” SiC晶片研削時(雙面處理)
?t=450μm→350μm
UPH/約7片
運行12小時 日產/84片
運行30天 月產/2550片
優勢：
- 化合物半導體晶片偏硬，偏脆的特性，在加工上比較困難，尤其是減薄加工工序難度更加一籌，秀和工業可以提供優秀于其他廠家的減薄加工的專用設備。
- 優先于同行業其他廠家，開發出IoT系統，使用各種感應功能，監控和管理設備的運作狀態。量產工程中的故障可以提前感知，以提前預防做好保全工作。為客戶提供「安心」「安全」的產品。
- 半導體后工程的「貼附」「研削」「研磨」「剝離」相關的加工設備，業界里只有秀和工業全部都有涉獵，可以為客戶提供一體式設備解決方案。
工藝流程：
設備運行視頻：
有任何相關問題請咨詢：022-28219577